Difference between revisions of "Galvanische Beschichtung"

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(Selektive galvanische Beschichtung)
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Die eigentliche Metallabscheidung erfolgt in der Elektrolytlösung, die das abzuscheidende
 
Die eigentliche Metallabscheidung erfolgt in der Elektrolytlösung, die das abzuscheidende
 
Metall in Form von Ionen enthält. Daneben sind im Bad verfahrensbedingt
 
Metall in Form von Ionen enthält. Daneben sind im Bad verfahrensbedingt
noch andere Hilfsstoffe, z.B. Leitsalze und je nach Einsatz, Glanzzusätze
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noch andere Hilfsstoffe, z.B. Leitsalze und, je nach Einsatz, Glanzzusätze
sowie organische Badzusätze vorhanden, die beim Galvanisierungsvorgang in
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sowie organische Badzusätze, vorhanden, die beim Galvanisiervorgang in
 
die abgeschiedene Schicht inkorporiert werden und deren Eigenschaften
 
die abgeschiedene Schicht inkorporiert werden und deren Eigenschaften
 
maßgeblich beeinflussen.
 
maßgeblich beeinflussen.
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Alle Edelmetalle können galvanisch abgeschieden werden, wobei die Silber- und
 
Alle Edelmetalle können galvanisch abgeschieden werden, wobei die Silber- und
Goldbäder anteilmäßig deutlich im Vordergrund stehen (<xr id="tab:Precious Metal Electrolytes for Technical Applications"/><!--(Tab. 7.2)--> und <xr id="tab:Precious Metal Electrolytes for Decorative Applications"/><!--(Tab. 7.3)-->).
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Goldbäder anteilmäßig deutlich im Vordergrund stehen (<xr id="tab:Precious Metal Electrolytes for Technical Applications"/><!--(Tab. 7.2)--> and <xr id="tab:Precious Metal Electrolytes for Decorative Applications"/><!--(Tab. 7.3)-->).
 
Folgende Edelmetallbäder kommen zum Einsatz:
 
Folgende Edelmetallbäder kommen zum Einsatz:
  
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in den Elektrolyten bzw. durch Einsatz spezieller Masken oder Abdeckverfahren
 
in den Elektrolyten bzw. durch Einsatz spezieller Masken oder Abdeckverfahren
 
auch partiell veredelt. Auch Innenbeschichtungen von Bohrungen und
 
auch partiell veredelt. Auch Innenbeschichtungen von Bohrungen und
Rohren lassen sich mittels spezieller Vorrichtungen ausführen (<xr id="fig:Electroplated Parts"/>).
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Rohren lassen sich mittels spezieller Vorrichtungen ausführen.
  
 
'''Galvanisch beschichtete Teile'''
 
'''Galvanisch beschichtete Teile'''
  
<figure id="fig:Electroplated Parts">
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[[File:Electroplated Parts.jpg|left|Galvanisch beschichtete Teile]]
[[File:Electroplated Parts.jpg|left|Figure 1: Galvanisch beschichtete Teile]]
 
</figure>
 
  
  
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{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:70%"
 
{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:70%"
 
|-
 
|-
!colspan="2" style="text-align:center"|Beschichtungen
+
!colspan="2" style="text-align:center"|Coatings
 
|-
 
|-
|Edelmetalle:
+
|Precious metals
|Feingold, Hartgold (HV 150 bis 250) Palladium, Palladium-Nickel, Rhodium, Feinsilber, Hartsilber (HV 130 bis 160)
+
|Pure gold, hard gold (HV 150 250), palladium, palladium-nickel,<br />rhodium, pure silver, hard silver (HV 130 160)
 
|-
 
|-
|Unedelmetalle
+
|Non-precious metals
|Kupfer, Nickel, Zinn, Zinnlegierungen
+
|Copper, nickel, tin, tin alloys
 
|-
 
|-
|Trägerwerkstoffe
+
|Carrier materials
|Kupfer, Kupferlegierungen, Nickel, Nickellegierungen, Eisen, Stahl, Aluminium, Aluminiumlegierungen, Verbundwerkstoffe wie Aluminium-Siliziumkarbid
+
|Copper, copper alloys, nickel, nickel alloys, iron, steel, aluminum, aluminum alloys,<br />composite materials such as aluminum – silicon carbide
 
|}
 
|}
  
  
*'''Schichtdicken und Toleranzen'''
+
*'''Coating thickness'''
  
 
{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:70%"
 
{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:70%"
 
|-
 
|-
|Edelmetalle:     
+
|Precious metals:     
|0,2 - 5 μm (übliche Schichtdicken; bei Ag auch bis 25 μm)
+
|0.2 5 μm (typical layer thicknesses; for Ag also up to 25 μm)
 
|-
 
|-
|Unedelmetalle:  
+
|Non-precious metals:  
|bis ca. 20 μm
+
|Up to approx. 20 μm
 
|-
 
|-
|Toleranzen:   
+
|Tungsten 
|je nach geometrischer Form der Teile stark schwankend (bis ca. 50%, bezogen auf die festgelegte Prüfstelle). Es empfiehlt sich, einen Mindestwert für die Schichtdicke an einem konkreten Messpunkt vorzuschreiben.
+
|0.5 N
 +
|-
 +
|Tolerances:   
 +
|Strongly varying depending on the geometrical shape of parts(up to 50% at a defined measuring spot).<br />It is recommended to specify a minimum value for the coating thickness at a defined measuring spot
 
|}
 
|}
  
  
*'''Qualitätsmerkmale'''  
+
*'''Quality criteria'''  
Fertigungsbegleitend geprüft und dokumentiert werden je nach Anwendung
+
Besides others the following layer parameters are typically monitored in-process and documented:
u.a. folgende Schichtmerkmale:
 
 
 
*Schichtdicke 
 
*Haftfestigkeit
 
*Porosität
 
*Lötbarkeit
 
*Bondbarkeit
 
*Kontaktwiderstand
 
  
Die Prüfungen und die Festlegung der Prüfmerkmale erfolgen nach einschlägigen
+
*Coating thickness 
Normen, Werksnormen bzw. Kundenspezifikationen.
+
*Adhesion strength
 +
*Porosity 
 +
*Solderability
 +
*Bonding property
 +
*Contact resistance
 +
These quality tests are performed according to industry standards, internal standards, and customer specifications resp.
  
====Galvanische Beschichtung von Halbzeugen====
+
==== Electroplating of Semi-finished Materials====
Die Aufgabe, Bänder, Profile und Drähte in kontinuierlich arbeitenden Anlagen
+
The process for overall electroplating of strips, profiles, and wires is mostly performed on continuously operating reel-to-reel equipment. The processing steps for the individual operations such as pre-cleaning, electroplating, rinsing are following the same principles as those employed in parts electroplating.
allseitig bzw. rundum galvanisch zu beschichten, wird üblicherweise im Durchzugsverfahren
 
gelöst. Die Arbeitsschritte der einzelnen Behandlungsstationen
 
(Reinigen, Prozessbäder, Spülen) stimmen in der Abfolge mit den Verfahrensschritten
 
bei der Teilebeschichtung überein.
 
  
Die allseitige Beschichtung wird überwiegend zur Versilberung oder Verzinnung
+
The overall coating is usually applied for silver plating and tin coating of strips and wires. Compared to hard gold or palladium these deposits are rather ductile, ensuring that during following stamping and forming operations no cracks are generated in the electroplated layers.
von Bändern und Drähten verwendet. Die abgeschiedenen Schichten sind im
 
Vergleich zu Hartgold- oder Palladiumüberzügen duktil, so dass bei -Stanz- und
 
Biegevorgängen keine Risse in den Niederschlägen entstehen.
 
  
====Selektive galvanische Beschichtung====
+
==== Selective Electroplating====
Da Edelmetalle teuer sind, besteht ein Zwang, entsprechende Trägerteile möglichst
+
Since precious metals are rather expensive it is necessary to perform the electroplating most economically and coat only those areas that need the layers for functional purposes. This leads from overall plating to selective electroplating of strip material in continuous reel-to-reel processes. Depending on the final parts design and the end application the processes can be applied to solid strip material as well as pre-stamped and formed continuous strips or utilizing wire-formed or machined pins which have been arranged as bandoliers attached to conductive metal strips.
wirtschaftlich und nur an den für die Funktion erforderlichen Stellen zu
 
beschichten. Dies führt zwangsläufig von der allseitigen Beschichtung von
 
Bändern zur selektiven Galvanisierung von Bandmaterial im Durchzugsverfahren.
 
Je nach Anwendung kommen sowohl massive als auch vorgestanzte
 
und im Funktionsbereich geformte Bänder oder vom Draht gestanzte bzw.
 
gedrehte und auf einem metallischen Haltestreifen gegurtete Stifte zum Einsatz.
 
  
Das Kernstück der selektiven Edelmetallabscheidung stellt die Galvanisier- oder
+
The core part of selective precious metal electroplating is the actual electroplating cell. In it the anode is arranged closely to the cathodic polarized material strip. Cathode screens or masks may be applied between the two to focus the electrical field onto closely defined spots on the cathode strip.
Beschichtungszelle dar. In ihr ist die Anode in geringem Abstand zum kathodisch
 
geschalteten Band angeordnet. Dazwischen befinden sich gegebenenfalls
 
Kathodenabschirmungen oder Masken, die den Verlauf der elektrischen
 
Feldlinien auf bestimmte Bereiche der Kathode konzentrieren.  
 
  
Um möglichst kurze Beschichtungszeiten zu erreichen, werden für die Selektivgalvanisierung spezielle Hochleistungselektrolyte eingesetzt und durch eine hohe Strömungsgeschwindigkeit
+
Special high performance electrolytes are used in selective electroplating to reach short plating times and allow a high flow rate of the electrolyte for a fast electrolyte exchange in the actual coating area.
für raschen Elektrolytaustausch in der Abscheidungszone
 
gesorgt.
 
  
Für die gezielte, auf den Funktionsbereich begrenzte Edelmetallbeschichtung
+
For a closely targeted electroplating of limited precious metal coating of contact springs so-called brush-electroplating cells are employed <xr id="fig:Brush Tampon plating cell"/><!--(Fig. 7.1)-->. The “brush” or “tampon” consists of a roof shaped titanium metal part covered with a special felt-like material. The metal body has holes in defined spots through which the electrolyte reaches the felt. In the same spots is also the anode consisting of a fine platinum net. The pre-stamped and in the contact area pre-formed contact spring part is guided under a defined pressure over the electrolyte soaked felt material and gets wetted with the electrolyte. This allows the metal electroplating in highly selective spots.
einer Kontaktfeder wird als Galvanisierzelle häufig die sog. Brushzelle verwendet
 
(<xr id="fig:Brush Tampon plating cell"/><!--(Fig. 7.1)-->). Der Brush oder Tampon besteht aus einem dachförmigen Metallkörper
 
aus Titan, der mit einem Gewebe aus Vlies überzogen ist. Der Metallkörper
 
weist an bestimmten Stellen Öffnungen auf, durch die der Elektrolyt auf das
 
Gewebe gelangt. Dort befindet sich auch die aus einem Platinnetz bestehende
 
Anode. Das zu beschichtende, vorgestanzte und im Kontaktbereich geformte
 
Band wird unter einem bestimmten Druck über das mit Elektrolyt getränkte
 
Gewebe gezogen und mit Elektrolyt benetzt. Dies ermöglicht eine Metallabscheidung
 
besonders hoher Selektivität.
 
  
 
<figure id="fig:Brush Tampon plating cell">
 
<figure id="fig:Brush Tampon plating cell">
[[File:Brush Tampon plating cell.jpg|right|thumb|Figure 2: Brush-(Tamponzelle); 1 Band; 2 Anode; 3 Elektrolytzuführung; 4 Vliesbedeckte Zelle]]
+
[[File:Brush Tampon plating cell.jpg|right|thumb|Brush (or “Tampon”) plating cell; 1 Strip; 2 Anode; 3 Electrolyte feed; 4 Felt covered cell]]
 
</figure>
 
</figure>
Für bestimmte Anwendungen, z.B. bei Systemträgern für Halbleiterbauelemente
+
For special applications, such as for example electronic component substrates, a dot shaped precious metal coating is required. This is achieved with two belt masks running synchronous to the carrier material. One of these two masks has windows which are open to the spot areas targeted for precious metal plating coverage.
wird eine punktförmige Veredelung benötigt. Diese Beschichtungsart wird
+
 
mittels zweier mitlaufender Riemenmasken erreicht. Eine dieser beiden Masken
 
enthält Fenster, welche die zur Veredelung bestimmten Flächen freigeben.
 
  
Die verschiedenen Ausführungsformen und Verfahren der selektiven
+
'''Summary of the processes for selective electroplating'''
Beschichtung sind zusammengefasst:
 
  
*'''Tauchgalvanisierung'''
+
*'''Immersion electroplating'''
Allseitige oder selektive, beidseitige Beschichtung von massiven Bändern oder Stanzteilen am Band
+
Overall or selective electroplating of both sides of solid strips or pre-stamped parts in strip form
  
*'''Streifengalvanisierung'''
+
*'''Stripe electroplating'''
Streifenveredelung massiver Bänder mittels Radzellenund Maskierungstechnik
+
Stripe electroplating on solid strips through wheel cells or using masking techniques
  
*'''Selektive Galvanisierung'''
+
*'''Selective electroplating'''
Einseitige selektive Beschichtung massiver, vorgestanzten oder metallisch gegurteter Bänder mittels Brushplating
+
One-sided selective coating of solid, pre-stamped, or metallically belt-linked strips by brush plating
  
*'''Spotgalvanisierung'''
+
*'''Spot electroplating'''
Punktförmige Veredelung von Kontaktflächen auf vorgelochten Bändern oder Stanzteilen am Band
+
Electroplating in spots of solid strips with guide holes or pre-stamped parts in strip form
  
'''Typische Beispiele für galvanisch beschichtete Halbzeuge'''
+
'''Typical examples of electroplated semi-finished materials'''
(allseitig und selektiv)
+
(overall or selectively)
[[File:Typical examples of electroplated semi finished materials.jpg|left|Figure 3: Typische Beispiele für galvanisch beschichtete Halbzeuge (allseitig und selektiv)]]
+
[[File:Typical examples of electroplated semi finished materials.jpg|left|Typical examples of electroplated semi-finished materials (overall or selectively)]]
  
 
<div class="clear"></div>
 
<div class="clear"></div>
*'''Werkstoffe'''
+
*'''Materials'''
 
{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:70%"
 
{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:70%"
 
|-
 
|-
!Beschichtungen
+
!Type of Coatings
!Schichtdicken
+
!Coating Thickness
!Bemerkungen
+
!Remarks
 
|-
 
|-
|colspan="3" |'''Edelmetalle'''
+
|colspan="3" |'''Gold electrolytes'''
 
|-
 
|-
|Feingold<br />Hartgold (AuCo 0.3)
+
|Pure gold<br />Hard gold (AuCo 0.3)
 
|0.1 - 3 μm
 
|0.1 - 3 μm
|In Sonderfällen bis 10 μm
+
|In special cases up to 10 μm
 
|-
 
|-
|Palladium-Nickel (PdNi20)
+
|Palladium-nickel (PdNi20)
 
|0.1 - 5 μm
 
|0.1 - 5 μm
|Häufig zusätzlich 0,2 μm AuCo 0,3
+
|Frequently with additional 0.2 μm AuCo 0.3
 
|-
 
|-
|Silber
+
|Silver
 
|0.5 - 10 μm
 
|0.5 - 10 μm
|in Sonderfällen bis 40 μm
+
|In special cases up to 40 μm
 
|-
 
|-
|colspan="3" |'''Unedelmetalle'''
+
|colspan="3" |'''Non-precious Metals'''
 
|-
 
|-
 
|Nickel
 
|Nickel
 
|0.5 - 4 μm
 
|0.5 - 4 μm
|Diffusionsbarriere insbesondere bei Gold-Schichten
+
|Diffusion barrier especially for gold layers
 
|-
 
|-
|Kupfer
+
|Copper
 
|1 - 5 μm
 
|1 - 5 μm
|Zwischenschicht bei Verzinnung von CuZn-Werkstoffen
+
|Intermediate layer used in tinning of CuZn
 
|-
 
|-
|Zinn, Zinn-Legierungen
+
|Tin, tin alloys
 
|0.8 - 25 μm
 
|0.8 - 25 μm
|
+
|materials
 
|}
 
|}
  
*'''Trägerwerkstoffe'''
+
*'''Carrier Materials'''
Kupfer, Kupferlegierungen, Nickel, Nickellegierungen, Edelstahl
+
Copper, copper alloys, nickel, nickel alloys, stainless steel
  
*'''Abmessungen und Toleranzen'''
+
*'''Dimensions and Tolerances'''
  
[[File:Dimensions and Tolerances.jpg|left|thumb|Figure 4: Abmessungen und Toleranzen]]
+
[[File:Dimensions and Tolerances.jpg|left|Dimensions and Tolerances]]
  
 
<br style="clear:both;"/>
 
<br style="clear:both;"/>
  
*'''Toleranzen'''
+
*'''Tolerances'''
  
 
{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:30%"
 
{| class="twocolortable" style="text-align: left; font-size: 12px;width:30%"
 
|-
 
|-
|Schichtdicke
+
|Coating thickness approx.
 
|&#177; 10 %  
 
|&#177; 10 %  
 
|-
 
|-
|Schichtbreite und Lage
+
|Coating thickness and position
 
|&#177; 0,5 mm  
 
|&#177; 0,5 mm  
 
|}
 
|}
  
  
*'''Qualitätsmerkmale'''
+
*'''Quality Criteria'''
Festigkeitswerte und Maßtoleranzen der Trägerbänder entsprechen den einschlägigen
+
Mechanical properties and dimensional tolerances of the carrier materials follow the typical standards, i.e. DIN EN 1652 and 1654 for copper and copper alloys. Depending on the application the following parameters are tested and recorded (see also: Electroplating of parts):
Normen, z.B. DIN EN 1652 und1654 für Kupfer und Kupferlegierungen.
 
Je nach Anwendung werden folgende Merkmale geprüft und dokumentiert
 
(s. Galvanisieren von Teilen):
 
  
*Schichtdicke 
+
*Coating thickness
*Haftfestigkeit
+
*Solderability
*Porosität
+
*Adhesion strength 
*Lötbarkeit
+
*Bonding property
*Bondbarkeit
+
*Porosity         
*Kontaktwiderstand
+
*Contact resistance
  
Die Prüfungen und die Festlegung der Prüfmerkmale erfolgen nach einschlägigen
+
These quality tests are performed according to industry standards, internal standards, and customer specifications resp.
Normen, Werksnormen bzw. Kundenspezifikationen.
 
  
 
==Referenzen==
 
==Referenzen==

Revision as of 17:40, 24 September 2014

Zur galvanischen Abscheidung von Metallen, insbesondere Edelmetallen, werden wässrige Lösungen (Elektrolyte) verwendet, die die abzuscheidenden Metalle in Form von Ionen (z.B. gelöste Metallsalze) enthalten. Unter dem Einfluss eines elektrischen Feldes zwischen der Anode und dem kathodisch geschalteten Beschichtungsgut gelangen positiv geladene Metallionen zur Kathode, wo sie ihre Ladung abgeben und sich als Metall auf der Oberfläche abscheiden. Je nach Einsatz, in der Elektrotechnik und Elektronik oder für dekorative Zwecke, kommen unterschiedliche galvanische Bäder (Elektrolyte) zur Anwendung. Die für die Edelmetallbeschichtung eingesetzten Galvanisieranlagen und der Umfang ihrer Ausrüstung werden durch den vorgesehenen technologischen Prozess bestimmt. Die galvanischen Arbeitsverfahren erstrecken sich nicht nur auf den Vorgang der reinen elektrochemischen Metallabscheidung, sondern umfassen auch die Vor- und Nachbehandlung der zu beschichtenden Ware. Wichtigste Voraussetzung für die Herstellung eines festhaftenden Überzuges ist eine metallisch blanke, d.h. fett- und oxidfreie Oberfläche des zu veredelnden Werkstückes. Hierfür gibt es verschiedene Vorbehandlungsverfahren, die auf den Oberflächenzustand und die Eigenschaften des Werkstoffes abgestimmt sind. In den folgenden Abschnitten werden galvanische Bäder - Edelmetall- und Unedelmetallbäder - sowie die wichtigsten Galvanisierverfahren beschrieben.

Galvanische Bäder

Die eigentliche Metallabscheidung erfolgt in der Elektrolytlösung, die das abzuscheidende Metall in Form von Ionen enthält. Daneben sind im Bad verfahrensbedingt noch andere Hilfsstoffe, z.B. Leitsalze und, je nach Einsatz, Glanzzusätze sowie organische Badzusätze, vorhanden, die beim Galvanisiervorgang in die abgeschiedene Schicht inkorporiert werden und deren Eigenschaften maßgeblich beeinflussen.

Edelmetallbäder

Alle Edelmetalle können galvanisch abgeschieden werden, wobei die Silber- und Goldbäder anteilmäßig deutlich im Vordergrund stehen (Table 1 and Table 2). Folgende Edelmetallbäder kommen zum Einsatz:

  • Goldbäder
    Für funktionelle und dekorative Zwecke werden Feingold -, Hartgold -, niederkarätige Gold- oder Farbgoldschichten abgeschieden. Entsprechend den jeweiligen Anforderungen können dazu entweder saure, neutrale und cyanidische Bäder auf Kaliumgoldcyanid-Basis oder cyanidfreie und neutrale Bäder auf Goldsulfitkomplex-Basis eingesetzt werden.
  • Palladium- und Platinbäder
    Palladium wird als reines Metall, für Anwendungen im Bereich elektrischer Kontakte jedoch meist als Legierungsschicht mit Nickel als Legierungspartner, abgeschieden. Bei hochwertigem Schmuck kommen Palladiumschichten auch als allergiefreie Zwischenschichten zum Einsatz, die als Diffusionsbarriere für kupferhaltige Basiswerkstoffe dienen. Platin wird überwiegend zur Oberflächenveredelung von Schmuckerzeugnissen verwendet.
  • Rutheniumbäder
    Rutheniumschichten werden als Kontaktschichten für Reed-Kontakte vor allem aber für dekorative Zwecke eingesetzt. So erzielt man einen modischen Farbton mit der „grauen“ Rutheniumfarbe als Oberflächenschicht. Eine weitere Farbnuance erhält man mit Schwarzrutheniumniederschlägen, die sich speziell für Bi-Color Artikel eignen.
  • Rhodiumbäder
    Rhodiumschichten sind außerordentlich hart (HV 700 - 1000) und verschleißfest. Daneben zeichnen sie sich durch eine hohe Lichtreflexion aus. Diese Eigenschaften werden gleichermaßen für technische und dekorative Anwendungen genutzt. Während für den Gebrauch im technischen Bereich vor allem harte, spannungsarme und rissfreie Schichten benötigt werden, stehen für den Einsatz in der Schmuckindustrie hellweiße Niederschläge mit hoher Korrosionsbeständigkeit im Vordergrund.
  • Silberbäder
    Silberbäder, die keine weiteren Zusätze enthalten, ergeben matte, weiche Niederschläge (HV~80). Sie werden vor allem als Kontaktschichten z.B. in Steckverbindern eingesetzt. Die für dekorative Zwecke benötigten Eigenschaften, wie Glanz und Verschleißfestigkeit, werden durch spezielle Badzusätze erreicht.


Table 1: Edelmetallbäder für technische Anwendungen
Badtypen pH-Bereich Schichteigenschaften Anwendungsgebiete
Härte HV Feingehalt [kt]
Goldbäder
AUROMET TN 3.2 - 4.2 ca. 70 99.99% Au Vorvergoldung
AUROMET XPH 0.3 - 0.6 160 - 180 99.8% Au Vorvergoldung für Edelstahl u.ä.
DODUREX COC 4.6 - 4.9 160 - 180 99.6% Au Leiterplatten, Steckverbinder, Kontaktteile usw.,
techn. Hartvergoldung für Gestellund Trommelware
DODUREX HS 100 4.3 - 4.6 160 - 180 99.6% Au High-Speed-Prozess für Steckverbinder und LP-Technik
PURAMET 202
PURAMET 402
5.5 - 6.5
7.0 - 7.5
60 - 80
60 - 80
99.99% Au
99.99% Au
Hochreine Goldüberzüge für die Elektrotechnik u. Elektronik incl. Halbleiteru. LP-Technik
bei hohen Anforderungen an Bondeigenschaften
Platinbäder
RHODOPLAT T stark sauer 900 99.0% Rh Duktile Rhodiumabscheidungen für dicke Schichten, Reed-Kontakte, Gleitkontakte
RUTHENIUMBAD stark sauer 900 99.0% Ru Rissfreie, dicke Rutheniumschichten
PLATINBAD 5 stark sauer 240 - 260 99.9% Pt Hochtemperaturschalter usw.
DODUPAL 3 7.0 - 8.0 220 - 250 99.9% Pd Dünne Palladiumschicht als Diffusionsbarriere
DODUPAL 5 7.0 - 8.0 220 - 250 99.9% Pd Steckverbinder u. Kontaktteile
DODUPAL 10 8.0 - 8.5 350 - 400 80.0% Pd Pd/Ni für Steckverbinder u. Kontaktteile
Silberbäder
ARGOL 30 cyanidisch ca. 90 99.9% Ag Kontaktteile, Steckverbinder
ARGOL HS 100 ca.. 9.0 90 - 120 99.9% Ag
ARGOL 2000 approx. 12.0
ARGOL 400 160 - 180
Unedelmetallbäder

Die wichtigsten Metalle dieser Gruppe, die auf galvanischem Wege abgeschieden werden, sind: Kupfer, Nickel, Zinn und Zink und deren Legierungen. Die Abscheidung erfolgt in Form reiner Metalle, wobei verschiedenartige Badtypen zum Einsatz kommen (Table 3).

  • Kupferbäder
    Kupferbäder werden entweder zur Aufbringung einer Zwischenschicht beim Galvanisieren von Teilen und Bändern, zum Leiterbildaufbau oder zur Endverstärkung bei der Herstellung von Leiterplatten eingesetzt.
  • Zinnbäder
    Reinzinn- und Zinn-Legierungsschichten werden sowohl als matte wie auch glänzende Endschichten für die Herstellung lötbarer Oberflächen verwendet. Bei der Leiterplattenherstellung dienen sie auch als Ätzresist zur Leiterbildstrukturierung nach der galvanischen Kupferabscheidung.


Table 2: Edelmetallbäder für dekorative Anwendungen
Badtypen pH-Bereich Schichteigenschaften Anwendungsgebiete
Härte HV Feingehalt [kt]
Goldbäder
DURAMET 1N14
DURAMET 2N18
DURAMET 3N
DURAMET 265S
DURAMET 333S
DURAMET 386S
3.4 - 3.8
3.4 - 3.8
3.4 - 3.8
3.4 - 3.8
3.2 - 3.6
3.4 - 3.8
1N
2N
3N
Hamilton
1N
Hamilton
23
23
23
23
23
23
Schmuck, Uhren, Schreibgeräte, Brillen, Armaturen usw.
HELODOR 630 8.5 - 9.5 rose´ 22 Brillen, Schmuck, Uhren, Schreibgeräte
DODUPLAT Y18
DODUPLAT Y18HS
9.5 - 10.5
9.5 - 11
2N
2N
18
16
Schmuck, Uhren, Schreibgeräte
AUROMET TN
AUROMET 2
AUROMET 4
3.2 - 4.2
3.2 - 4.0
3.2 - 4.2
Feinold
2 - 3N
2 - 3N
23
23
23
Farbvergoldung für Schmuck, Uhren, Schreibgeräte, Armaturen, Brillen usw.
Platinmetallbäder
RHODIOR 2
RHODIOR 20
RHODIOR 25
RHODIOR 40
< 1
< 1
< 1
< 1
weiß
weiß
weiß
weiß
99.99%Rh
99.99%Rh
99.99%Rh
99.99%Rh
Hellweiße Rhodiumschichten hoher Härte für Schmuck, Uhren, Schreibgeräte usw.
RUTHENIUMBAD stark sauer grau/schwarz 99.0%Ru Sehr harte, glanzerhaltende Rutheniumschicht
PLATINBAD stark sauer weiß 99.9%Pt Schmuck, Uhren usw.
DODUPAL 3 7.0 - 7.6 Pd-Farbe 95%Pd Dünne Pd/Zn Schicht als Diffusionsbarriere (Ni-frei)
DODUPAL 10 8.0 - 8.5 weiß 80%Pd Pd/Zn-Legierung für Dekoration
DODUPAL 12 7.0 - 8.0 weiß 95%Pd Pd/Zn-Legierung für Dekoration
Silberbad
ARGOL 2000 11.5 - 12.5 hellweiß 99.9%Ag Schmuck, Uhren, Dekoration
  • Nickelbäder
    Nickelschichten werden überwiegend als Diffusionsbarriere beim Vergolden von Kupfer oder als Zwischenschicht beim Verzinnen eingesetzt.
  • Bronzebäder
    Bronzeschichten - in weißem oder gelbem Farbton - werden entweder als Nickelersatz für allergiefreie Zwischenschichten oder als Oberflächenschicht für dekorative Zwecke eingesetzt. Auch im Bereich technischer Anwendungen kommt die Bronzeschicht aufgrund ihrer Korrosionsbeständigkeit und guten Lötbarkeit zum Zuge.


Table 3: Gebräuchliche Elektrolyte zur Abscheidung von Unedelmetallen
Badtypen pH-Bereich Badtemperatur
[°C]
Stromdichte
[A/dm²]
Ausbeute [%]
Kupferbäder
Cyanidisch Kupfer 10 - 13 40 - 65 0 .5 - 4 70-95
Sauer Kupfer <1 20 - 35 2 - 8 <100
Nickelbäder
Watts Nickelbad
(Sulfat)
3 - 5 40 - 70 3 - 10 95-97
Sulfamat Nickel 3 - 4 30 - 60 5 - 20 95-97
Zinnbäder
Sauer Zinn (Sulfat) <1 18 - 25 1 - 3 <100
Alkalisch Zinn >10 75 - 80 2 - 17 max.95
Bronzebäder
DODUBRONCE W stark alkalisch 55 - 60 0.5 - 1.5
DODUBRONCE G stark alkalisch 45 - 50 2 - 3.5
DODUBRONCE AF stark alkalisch 58 - 62 0.5 - 1.5

Galvanische Beschichtung von Teilen

Die allseitige - bzw. Rundumveredelung kleiner Massenteile, wie Kontaktfedern, -niete oder -stifte erfolgt i.d.R. als schüttfähiges Massengut in Galvanisierglocken oder -trommeln. Während des Abscheidungsprozesses werden der Elektrolyt und die zu beschichtenden Teile dauernd durchgemischt, um eine möglichst gleichmäßige Beschichtung zu erreichen.

Größere Teile werden häufig als Gestellware allseitig oder durch gezieltes Eintauchen in den Elektrolyten bzw. durch Einsatz spezieller Masken oder Abdeckverfahren auch partiell veredelt. Auch Innenbeschichtungen von Bohrungen und Rohren lassen sich mittels spezieller Vorrichtungen ausführen.

Galvanisch beschichtete Teile

Galvanisch beschichtete Teile


  • Werkstoffe
Coatings
Precious metals Pure gold, hard gold (HV 150 – 250), palladium, palladium-nickel,
rhodium, pure silver, hard silver (HV 130 – 160)
Non-precious metals Copper, nickel, tin, tin alloys
Carrier materials Copper, copper alloys, nickel, nickel alloys, iron, steel, aluminum, aluminum alloys,
composite materials such as aluminum – silicon carbide


  • Coating thickness
Precious metals: 0.2 – 5 μm (typical layer thicknesses; for Ag also up to 25 μm)
Non-precious metals: Up to approx. 20 μm
Tungsten 0.5 N
Tolerances: Strongly varying depending on the geometrical shape of parts(up to 50% at a defined measuring spot).
It is recommended to specify a minimum value for the coating thickness at a defined measuring spot


  • Quality criteria

Besides others the following layer parameters are typically monitored in-process and documented:

  • Coating thickness
  • Adhesion strength
  • Porosity
  • Solderability
  • Bonding property
  • Contact resistance

These quality tests are performed according to industry standards, internal standards, and customer specifications resp.

Electroplating of Semi-finished Materials

The process for overall electroplating of strips, profiles, and wires is mostly performed on continuously operating reel-to-reel equipment. The processing steps for the individual operations such as pre-cleaning, electroplating, rinsing are following the same principles as those employed in parts electroplating.

The overall coating is usually applied for silver plating and tin coating of strips and wires. Compared to hard gold or palladium these deposits are rather ductile, ensuring that during following stamping and forming operations no cracks are generated in the electroplated layers.

Selective Electroplating

Since precious metals are rather expensive it is necessary to perform the electroplating most economically and coat only those areas that need the layers for functional purposes. This leads from overall plating to selective electroplating of strip material in continuous reel-to-reel processes. Depending on the final parts design and the end application the processes can be applied to solid strip material as well as pre-stamped and formed continuous strips or utilizing wire-formed or machined pins which have been arranged as bandoliers attached to conductive metal strips.

The core part of selective precious metal electroplating is the actual electroplating cell. In it the anode is arranged closely to the cathodic polarized material strip. Cathode screens or masks may be applied between the two to focus the electrical field onto closely defined spots on the cathode strip.

Special high performance electrolytes are used in selective electroplating to reach short plating times and allow a high flow rate of the electrolyte for a fast electrolyte exchange in the actual coating area.

For a closely targeted electroplating of limited precious metal coating of contact springs so-called brush-electroplating cells are employed Figure 1. The “brush” or “tampon” consists of a roof shaped titanium metal part covered with a special felt-like material. The metal body has holes in defined spots through which the electrolyte reaches the felt. In the same spots is also the anode consisting of a fine platinum net. The pre-stamped and in the contact area pre-formed contact spring part is guided under a defined pressure over the electrolyte soaked felt material and gets wetted with the electrolyte. This allows the metal electroplating in highly selective spots.

Brush (or “Tampon”) plating cell; 1 Strip; 2 Anode; 3 Electrolyte feed; 4 Felt covered cell

For special applications, such as for example electronic component substrates, a dot shaped precious metal coating is required. This is achieved with two belt masks running synchronous to the carrier material. One of these two masks has windows which are open to the spot areas targeted for precious metal plating coverage.


Summary of the processes for selective electroplating

  • Immersion electroplating

Overall or selective electroplating of both sides of solid strips or pre-stamped parts in strip form

  • Stripe electroplating

Stripe electroplating on solid strips through wheel cells or using masking techniques

  • Selective electroplating

One-sided selective coating of solid, pre-stamped, or metallically belt-linked strips by brush plating

  • Spot electroplating

Electroplating in spots of solid strips with guide holes or pre-stamped parts in strip form

Typical examples of electroplated semi-finished materials (overall or selectively)

Typical examples of electroplated semi-finished materials (overall or selectively)
  • Materials
Type of Coatings Coating Thickness Remarks
Gold electrolytes
Pure gold
Hard gold (AuCo 0.3)
0.1 - 3 μm In special cases up to 10 μm
Palladium-nickel (PdNi20) 0.1 - 5 μm Frequently with additional 0.2 μm AuCo 0.3
Silver 0.5 - 10 μm In special cases up to 40 μm
Non-precious Metals
Nickel 0.5 - 4 μm Diffusion barrier especially for gold layers
Copper 1 - 5 μm Intermediate layer used in tinning of CuZn
Tin, tin alloys 0.8 - 25 μm materials
  • Carrier Materials

Copper, copper alloys, nickel, nickel alloys, stainless steel

  • Dimensions and Tolerances
Dimensions and Tolerances


  • Tolerances
Coating thickness approx. ± 10 %
Coating thickness and position ± 0,5 mm


  • Quality Criteria

Mechanical properties and dimensional tolerances of the carrier materials follow the typical standards, i.e. DIN EN 1652 and 1654 for copper and copper alloys. Depending on the application the following parameters are tested and recorded (see also: Electroplating of parts):

  • Coating thickness
  • Solderability
  • Adhesion strength
  • Bonding property
  • Porosity
  • Contact resistance

These quality tests are performed according to industry standards, internal standards, and customer specifications resp.

Referenzen

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